半導體光刻膠反應釜防爆模溫機案例

來源:珞石機械瀏覽:571發布日期:2021-11-18 15:15

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半導體光刻膠反應釜防爆模溫機案例

Successful cases

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案例介紹

光刻膠是一種高分子化合物,主要用于微電子制造中的光刻工藝在微電子制造中,光刻膠的應用非常廣泛,可以用來制造芯片、光學器件、MEMS(微機電系統) 等微型器件。此案例客戶是半導體材料行業。

案例現場

    半導體案例光刻膠 光刻膠控溫案例

半導體光刻膠反應釜防爆模溫機案例

選用設備

ExdⅡBT4隔離式防爆模溫機

產品名稱:防爆模溫機

機器型號:EUOCBF

設備功率:6KW

功能配置:整機隔離式防爆 EXdII BT4,PLC編程控制,帶冷卻。

案例特點

反應釜控溫光刻膠,使用溫度需要150度,反應期間會有放熱,所以需要增加冷卻功能,設計1 平方( 板式換熱器 )。